Los TFT o transistores de películas finas son un tipo especializado de transistores de efecto campo, que modifica el diseño normal de un dispositivo FET. Los TFT se crean mediante el depósito de un material de canal en un aislante, que en la mayoría de los casos es una forma de vidrio. El material depositado es generalmente de silicio, que, por lo general, es la estructura base en que se construyen los dispositivos no FET TFT. Sobre esta capa de deposición de silicio fina se construye el resto del transistor, incluidos los compuestos dieléctricos y los contactos de fuente y drenaje.

Para los módulos de visualización TFT, hay un transistor asociado con cada píxel. Dado que el tamaño global del transistor TFT es muy pequeño comparado con el tamaño total del píxel que controla, bloquea muy poco la luz trasera que brilla a través de los píxeles individuales de la pantalla. La única forma en que esto se logra se debe a que la película fina de silicio de sustrato se disipa de todas las áreas sin transistor (la mayoría del área de la pantalla) para que la luz tenga un camino libre a través de la base del transistor de vidrio. Si el sustrato hubiera sido de silicio real, no habría permitido que la luz atravesará y se hubiera conducido a una pantalla no funcional.